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高速熔覆

超高速激光熔覆技术采用光束质量▅较好的半导体光纤输出激光器或光纤激光器，采用精密设计的高速激光熔覆头和①高转速或移动速度的运动机构。其激光束与粉束、惰性气体气流的耦合经过精密设计，工作时使一部分激光能量用于加热粉束，另一部分穿透粉束的激光束加热基材，粉末在进︾入熔池之前就已经熔化或加热至很高的温度，缩短了粉末熔化所需的时间，因此可以¤实现非常高的熔覆线速度（线速度最高可◤达200m/min，普通激光熔覆最高2m/min）。

超高速激光熔覆技术特点：

激光能量利用效率ω高。超高速激光熔覆№技术由于精密设计了激光束、粉束与惰性气体气流的耦合结构，使得大部分的激光束能量作用于粉末和工件，减少了→激光的反射和散射损耗，大幅度提高的激光能量利用效率。同轴送粉激光熔覆技术和旁轴送粉激光熔覆技术的激光束直〖接照射熔池，熔池表面非常◥光滑，具有很高的激光◥反射率，因此这两种激光熔覆技术的激光能量利⊙用率约35%左右；而超高速激光熔覆技术的激光束穿过ㄨ粉束照射熔池，大部分激光能量被粉束吸收，因此激光能量利用率高♀达65%左右。熔◥覆效率高。超高速激光熔覆技术由ぷ于其较高的激光能量利用率，再配合非常高的熔覆线速度和较薄的熔覆层，可实现非常高的熔覆效率（熔覆效率可达0.7m/以上）。熔覆层＠ 稀释率低。超高速激光熔覆技术由于较高的■熔覆线速度，熔池的▽存在时间非常短，因此其熔覆层的稀释率很低。超高速激光熔覆技术还具有覆层粗糙度好、抗裂性好以及工件♂变形小等特点。超高速激光熔覆技术制备的熔覆层较薄，非常适合新品零件表面的预保护涂层制备。